VRS设备

       环境的重要性逐年增强,尤其是VOCs的环境污染,导致环境污染,许多工业现场发生灾害, 由此产生的产业灾害每年都在急速增加。

       特别是在半导体生产工艺中,必须使用各种化学药品的环境,VOCs的排除量很高,特别是Display，生产工艺规定的排放限制或ISO  14001 的应对 ，作业环境改善的观点，VOC的减少及处理是必需的。

       污染严重的封闭无尘车间内对制程设备及生产产品的表面的particle污染加剧，部分产生二次化学反应，加剧污染造成产品不良， 必要的挥发性有机物质减少对产品良率提升有一定影响。 目前,VOCs一般采用zeolite Roll结构方式较多，这种结构VOCs浓缩率只限于15倍左右 。 为了克服这一难题,我们生产了Cylinder结构的设备，浓缩率可达到30倍。

工作原理

设备效能

设备规格

设备安装

可行方案推荐
        考虑到洁净室的环境条件（恒温恒湿的洁净环境）以及污染源的构成、 物理性质、浓度数值等可采用的去 除VOC的方案基本锁定在浓缩法、 吸附法和凝缩法。

       01： FFU+化学过滤器(吸附法)，FFU配置的化学过滤器，吸附材料填充量有限容易吸附 饱和，适用于环境VOC浓度不高的场合，通常在制程工艺较先进的晶原半导体厂、  LTPS厂等有应用。

       02： 污染源区域气体直排(置换通风)，送入洁净室内的空气需要进行热湿及过滤处理， 新风成本较高，且污染的空气真接排放对大气会有污染。通常应用在试验台、小型 试验区等。

       03： 洁净室内增设VOC处理设备(吸附浓缩)浓缩后的高浓度气体需要通过有机排气系统 排出，污染源附件通常设有有机排气管路，若有机排气系统有余量可以接入。此方 案在Sansung和LGD 液晶面板厂商中有应用。